金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，武汉普迪真空科技有限公司申请一项名为“一种连续上料的真空镀膜设备”的专利，公开号CN 119753615 A，申请日期为2025年2月真空镀膜 。
专利摘要显示，本发明提出了一种连续上料的真空镀膜设备，包括镀膜腔室、样品库腔室和上下料装置，所述镀膜腔室与样品库腔室密封连通；所述样品库腔室内存放有若干样品，所述上下料装置用于将样品库腔室内的样品移入镀膜腔室进行镀膜，并将镀膜后的样品移入样品库腔室内存放真空镀膜 。本发明通过样品库腔室存放多个样品，并利用上下料装置将样品库腔室内待镀膜的样品转移至镀膜腔室进行镀膜，并将镀膜后的样品转移至样品库腔室暂存，然后继续将样品库腔室内待镀膜的样品转移至镀膜腔室进行镀膜，可实现真空镀膜设备的连续上料，且上下料过程中无需开启箱门，不会破坏镀膜腔室内部的真空环境，可极大提升连续镀膜效率，且降低了多次抽真空所需的能耗。
天眼查资料显示，武汉普迪真空科技有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业真空镀膜 。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉普迪真空科技有限公司参与招投标项目165次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息47条，此外企业还拥有行政许可2个。
来源：金融界