金融界2025年3月20日消息，国家知识产权局信息显示，沈阳镨和真空电子设备有限公司取得一项名为“一种高效真空镀膜装置”的专利，授权公告号 CN 222631527 U，申请日期为2024年4月真空镀膜 。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种高效真空镀膜装置，涉及镀膜设备技术领域，包括底座，所述底座的顶部设置有真空仓，所述真空仓的顶部设置有顶盖，所述顶盖的底部设置有密封板，所述密封板底部的两侧均设置有固定板，所述固定板的底部设置有调节机构，所述调节机构包括开设在固定板表面的通孔，所述通孔的内侧固定安装有轴套，所述轴套的内侧活动安装有转轴真空镀膜 。该一种高效真空镀膜装置，通过调节机构的设置，能够带动产品匀速旋转，可以使涂层在整个表面均匀分布，避免出现涂层厚薄不均匀的情况，从而提高涂层的均匀性，还可以有效减少涂层在表面堆积或产生滞留现象，有助于获得更加平整、光滑的表面质量。
天眼查资料显示，沈阳镨和真空电子设备有限公司，成立于2013年，位于沈阳市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业真空镀膜 。企业注册资本100万人民币，实缴资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳镨和真空电子设备有限公司财产线索方面有商标信息1条，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界