艾华(无锡)半导体申请真空镀膜设备炉门密封机构专利,限制少投入成本低:真空镀膜

金融界2025年4月28日消息,国家知识产权局信息显示,艾华(无锡)半导体科技有限公司申请一项名为“一种真空镀膜设备炉门密封机构”的专利,公开号CN119876856A,申请日期为2024年12月真空镀膜

专利摘要显示,本发明是一种真空镀膜设备炉门密封机构,结构设计合理,真空炉门设计在下侧;扩充产能只需要加长设备即可,限制少,投入成本低真空镀膜 。炉门上升动作时,同时可实现外腔压紧形成与大气密封;内腔压紧实现金属舟、匀流板、抽气腔之间的密封;炉腔法兰与炉门特气口对接密封;抽气腔法兰与特气出口法兰对接密封;从而实现内腔与外腔之间的密封。同时实现三个部分的动作,当下降时,匀流板与抽气腔能够脱离金属舟回原位,并保证金属舟位于中间位置,平稳上下舟的同时,以极少的驱动实现更多的联动动作与真空密封。

天眼查资料显示,艾华(无锡)半导体科技有限公司,成立于2019年,位于无锡市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业真空镀膜 。企业注册资本7400万人民币。通过天眼查大数据分析,艾华(无锡)半导体科技有限公司共对外投资了2家企业,财产线索方面有商标信息7条,专利信息50条,此外企业还拥有行政许可14个。

来源:金融界

本站内容来自用户投稿,如果侵犯了您的权利,请与我们联系删除。联系邮箱:835971066@qq.com

本文链接:http://scuvdm.com/post/172.html