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沈阳镨和取得高效真空镀膜装置专利，能够带动产品匀速旋转提高涂层均匀性:真空镀膜
金融界2025年3月20日消息，国家知识产权局信息显示，沈阳镨和真空电子设备有限公司取得一项名为“一种高效真空镀膜装置”的专利，授权公告号CN222631527U，申请日期为2024年4月真空镀
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沈阳镨和取得真空镀膜基体清洁装置专利，使基体清洗更充分:真空镀膜
金融界2025年3月19日消息，国家知识产权局信息显示，沈阳镨和真空电子设备有限公司取得一项名为“一种真空镀膜基体清洁装置”的专利，授权公告号CN222625455U，申请日期为2024年3月真空
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