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武汉普迪真空科技申请一种连续上料的真空镀膜设备专利，提升连续镀膜效率:真空镀膜
金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，武汉普迪真空科技有限公司申请一项名为“一种连续上料的真空镀膜设备”的专利，公开号CN119753615A，申请日期为2025年2月真空镀膜。
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金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，武汉普迪真空科技有限公司申请一项名为“一种连续上料的真空镀膜设备”的专利，公开号CN119753615A，申请日期为2025年2月真空镀膜。