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    艾华半导体申请多腔体真空镀膜设备配方系统及控制方法专利,可有效缩小设备体积:真空镀膜

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    金融界2025年5月5日消息,国家知识产权局信息显示,艾华(无锡)半导体科技有限公司申请一项名为“一种多腔体真空镀膜设备配方系统及控制方法”的专利,公开号CN119913457A,申请日期为2025年

    2025-05-12
1 共1页

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